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氫氟酸腐蝕二氧化硅反應方程式

2017-5-17 20:45:59      點擊:
氫氟酸對硅的化合物有強腐蝕性。應在密閉的塑料瓶內保存。氫氟酸用氟氣(F₂)溶于水而得。用于雕刻玻璃、清洗鑄件上的殘砂、控制發酵、電拋光和清洗腐蝕半導體硅片(與HNO3的混酸)。

圖(1)高純度二氧化硅

因為氫原子和氟原子間結合的能力相對較強,使得氫氟酸在水中不能完全電離。氫氟酸能夠溶解很多其他酸都不能溶解的玻璃(二氧化硅),生成氣態的四氟化硅 反應方程式如下:
SiO₂(s) + 4 HF(aq) → SiF4↑ + 2 H₂O(l)
氫氟酸防腐蝕
圖(2)耐氫氟酸防腐材料KN17高分子陶瓷聚合物不含硅
正因如此,它必須儲存在塑料(理論上講,放在聚四氟乙烯做成的容器中會更好)、蠟質制或鉛制的容器中。氫氟酸沒有還原性。如果要長期儲存,不僅需要一個密封容器,而且容器中應盡可能將空氣排盡。